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  • 四氟化碳 (CF4)   项目名称 纯度指标(%) 四氟化碳 ≥99.999   杂质含量(ppm)   氧气(O2) ≤5 水(H2O) ≤2 氮气(N2) ≤2 *(CO2) ≤1 *(CO) ≤1 碳氢化合物(THC) ≤1   包装:采用47L、44L钢瓶充装,也可根据客户需要,分装到8L的气瓶中。

      用途:四氟化碳是目前微电子工业中用量*的等离子蚀刻气体 ,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制*火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

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  • 企业信息
  • 状态:匆匆过客
  • 核实:        
  • IP属地:陕西